Control system for a lithographic apparatus

WO2019057583 Art A1 28. März 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019057583
Aktenzeichen: EP18765650
Anmeldetag: 12. September 2018
Veröffentlichung: 28. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/08G02B26/08G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

3.336 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von