Sputtering target, method for producing laminated film, laminated film, and magnetic recording medium

WO2019058819 Art A1 28. März 2019

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019058819
Aktenzeichen: EP18858097
Anmeldetag: 16. August 2018
Veröffentlichung: 28. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/06G11B5/64G11B5/851H01F41/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von