Active light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and method for manufacturing electronic device

WO2019058945 Art A1 28. März 2019

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019058945
Aktenzeichen: EP18859442
Anmeldetag: 3. September 2018
Veröffentlichung: 28. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C09K3/00G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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