Valve device, flow adjustment method, fluid control device, flow control method, semiconductor manufacturing device, and semiconductor manufacturing method

WO2019059043 Art A1 28. März 2019

Anmelder: Fujikin Incorporated 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019059043
Aktenzeichen: EP18857959
Anmeldetag: 11. September 2018
Veröffentlichung: 28. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: F16K31/02F16K31/122F16K37/00H01L21/02H01L21/31F16K7/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fujikin Incorporated
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujikin

Der Anmelder ist ein japanischer Hersteller von Fluidsteuerungs- und Ventiltechnik für die Halbleiterfertigung. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Maschinenelemente und Fluidtechnik sowie auf Steuerungs- und Regelungstechnik und Messtechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

452 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik

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