Apparatus for imaging in a vacuum chamber, system for vacuum processing of a substrate, and method for imaging at least one object in a vacuum chamber

WO2019059909 Art A1 28. März 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019059909
Aktenzeichen: EP17925558
Anmeldetag: 21. September 2017
Veröffentlichung: 28. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L51/56H01L51/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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