Methods for sensitizing photoresist using flood exposures

WO2019060570 Art A1 28. März 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019060570
Aktenzeichen: EP18786488
Anmeldetag: 20. September 2018
Veröffentlichung: 28. März 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von