Methods and apparatuses for adjusting beam condition of charged particles

WO2019063530 Art A1 4. April 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019063530
Aktenzeichen: EP18778462
Anmeldetag: 25. September 2018
Veröffentlichung: 4. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/26H01J37/302H01J37/147

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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