Method and apparatus for an advanced charged controller for wafer inspection

WO2019063531 Art A1 4. April 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019063531
Aktenzeichen: EP18778463
Anmeldetag: 25. September 2018
Veröffentlichung: 4. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22G01N23/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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