Substrate handling device, exposure device, method for producing flat panel display, device production method, substrate handling method, and exposure method

WO2019064583 Art A1 4. April 2019

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019064583
Aktenzeichen: EP17927468
Anmeldetag: 29. September 2017
Veröffentlichung: 4. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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