Pattern forming method, ion implantation method, method for producing solid-state imaging element, multilayer resist film, and active light sensitive or radiation sensitive resin composition

WO2019064970 Art A1 4. April 2019

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019064970
Aktenzeichen: EP18862905
Anmeldetag: 13. August 2018
Veröffentlichung: 4. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/095G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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