Positive resist composition, resist film formation method, and method for producing laminate

WO2019065017 Art A1 4. April 2019

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019065017
Aktenzeichen: EP18863773
Anmeldetag: 23. August 2018
Veröffentlichung: 4. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F212/04C08F220/22G03F7/004G03F7/20G03F7/38

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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