Semiconductor device

WO2019065208 Art A1 4. April 2019

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019065208
Aktenzeichen
EP18861173
Anmeldetag
11. September 2018
Veröffentlichung
4. April 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/336H01L21/768H01L23/522H01L29/41H01L29/423H01L29/49H01L29/78H01L29/786
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

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