Semiconductor device
WO2019065208
Art A1
4. April 2019
Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019065208
- Aktenzeichen
- EP18861173
- Anmeldetag
- 11. September 2018
- Veröffentlichung
- 4. April 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336H01L21/768H01L23/522H01L29/41H01L29/423H01L29/49H01L29/78H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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