Mass flow rate control system, and semiconductor manufacturing device and vaporizer including said system

WO2019065611 Art A1 4. April 2019

Anmelder: Hitachi Metals, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019065611
Aktenzeichen: EP18862593
Anmeldetag: 25. September 2018
Veröffentlichung: 4. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G05D7/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Metals, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

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