Metrology system and method for determining a characteristic of one or more structures on a substrate

WO2019068459 Art A1 11. April 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019068459
Aktenzeichen: EP18766301
Anmeldetag: 18. September 2018
Veröffentlichung: 11. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/24G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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