Polishing liquid, polishing liquid set, polishing method, and defect inhibition method

WO2019069370 Art A1 11. April 2019

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019069370
Aktenzeichen
EP17928062
Anmeldetag
3. Oktober 2017
Veröffentlichung
11. April 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C09K3/14H01L21/304
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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