Positioning device, magnetic support system and lithographic apparatus

WO2019072529 Art A1 18. April 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019072529
Aktenzeichen: EP18778441
Anmeldetag: 24. September 2018
Veröffentlichung: 18. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/68H01F6/04H02K55/00F17C13/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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