Compound, pattern forming substrate, photodegradable coupling agent, pattern forming method, and transistor production method

WO2019073878 Art A1 18. April 2019

Anmelder: Nikon Corporation, Kanagawa University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019073878
Aktenzeichen: EP18866919
Anmeldetag: 3. Oktober 2018
Veröffentlichung: 18. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C07F7/18C23C18/18C23C18/20C23C18/28C23C18/31G03F7/075G03F7/20G03F7/40H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nikon Corporation
Kanagawa University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie

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