Cleaning fluids, cleaning method, and production method for semiconductor wafer

WO2019073931 Art A1 18. April 2019

Anmelder: Mitsubishi Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019073931
Aktenzeichen: EP18866694
Anmeldetag: 5. Oktober 2018
Veröffentlichung: 18. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D1/04C11D1/34C11D3/04C11D3/20C11D3/30C11D3/33

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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