Conformal doped amorphous silicon as nucleation layer for metal deposition

WO2019074877 Art A1 18. April 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019074877
Aktenzeichen: EP18865802
Anmeldetag: 9. Oktober 2018
Veröffentlichung: 18. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/02C23C16/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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