Multi-layer stacks for 3d nand extendability
WO2019075015
Art A1
18. April 2019
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019075015
- Aktenzeichen
- EP18867271
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 18. April 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/11556H01L27/11524H01L27/11582H01L27/1157H01L21/768H01L21/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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