Substrate equipped with multi-layer reflection film, reflection-type mask blank, reflection-type mask, and semiconductor device manufacturing process

WO2019078205 Art A1 25. April 2019

Anmelder: Hoya Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019078205
Aktenzeichen: EP18868741
Anmeldetag: 16. Oktober 2018
Veröffentlichung: 25. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/22G03F1/84G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hoya Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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