Forming Multiple Aerial Images in A Single Lithography Exposure Pass

WO2019079010 Art A1 25. April 2019

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019079010
Aktenzeichen: EP18867399
Anmeldetag: 26. September 2018
Veröffentlichung: 25. April 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/207G03B27/42G03F1/00G03F7/213

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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