Inspection tool, lithographic apparatus, electron beam source and an inspection method
WO2019081162
Art A1
2. Mai 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019081162
- Aktenzeichen
- EP18774076
- Anmeldetag
- 1. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/20G01N21/956H01J1/304H01J37/065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Vertreten von
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