Fan-out interconnect integration processes and structures

WO2019083875 Art A1 2. Mai 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019083875
Aktenzeichen: EP18869609
Anmeldetag: 22. Oktober 2018
Veröffentlichung: 2. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/528H01L23/525H01L23/00H01L23/485

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von