Method for self-healing of silicon carbide amorphous nanowire after breaking
WO2019090798
Art A1
16. Mai 2019
Anmelder: Dalian University Of Technology 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019090798
- Aktenzeichen
- EP17931668
- Anmeldetag
- 15. November 2017
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N3/08C01B32/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Dalian University Of Technology
- Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Dalian University of Technology
Die Dalian University of Technology ist eine chinesische staatliche Universität mit breitem naturwissenschaftlich-technischem Forschungsprofil. Das Portfolio konzentriert sich auf Software und Datenverarbeitung sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt durch Fertigungsverfahren und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2004 bis in die Gegenwart belegt.
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