Lithographic apparatus and method

WO2019091662 Art A1 16. Mai 2019

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019091662
Aktenzeichen: EP18773462
Anmeldetag: 27. September 2018
Veröffentlichung: 16. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/67H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML Netherlands B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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