Tungsten sputtering target and method for producing same
WO2019092969
Art A1
16. Mai 2019
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019092969
- Aktenzeichen
- EP18875616
- Anmeldetag
- 7. September 2018
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34B22F1/00B22F3/14B22F3/15B22F3/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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