Tungsten sputtering target and method for producing same

WO2019092969 Art A1 16. Mai 2019

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019092969
Aktenzeichen
EP18875616
Anmeldetag
7. September 2018
Veröffentlichung
16. Mai 2019
Rechtsraum
WO
IPC
C23C14/34B22F1/00B22F3/14B22F3/15B22F3/18
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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