Composition for forming resist film and resist pattern forming method

WO2019093145 Art A1 16. Mai 2019

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019093145
Aktenzeichen: EP18875629
Anmeldetag: 25. Oktober 2018
Veröffentlichung: 16. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08G79/12C08G79/14G03F7/20H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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