Substrate treatment apparatus

WO2019093244 Art A1 16. Mai 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019093244
Aktenzeichen: EP18875624
Anmeldetag: 2. November 2018
Veröffentlichung: 16. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027B05C9/14B05C11/10B05C15/00G03F7/16H01L21/02H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von