Photosensitive polymer, photoresist composition using same, and pattern forming method

WO2019093766 Art A2 16. Mai 2019

Anmelder: Dongjin Semichem Co., Ltd 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019093766
Aktenzeichen: EP18876477
Anmeldetag: 7. November 2018
Veröffentlichung: 16. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004G03F7/26G03F7/20C08F220/04C08F216/08C08F220/26

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Dongjin Semichem Co., Ltd
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Dongjin Semichem

Der Anmelder ist ein südkoreanischer Hersteller von Chemikalien für die Halbleiter- und Displayindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Klebstoffe, Optik und Kunststofftechnik, insbesondere Fotoresists und Materialien für Dünnschichtprozesse. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

456 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von