Method and apparatus for vapor depositing an insulation layer of metal oxide on a substrate

WO2019096391 Art A1 23. Mai 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019096391
Aktenzeichen: EP17800521
Anmeldetag: 16. November 2017
Veröffentlichung: 23. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/00C23C14/08C23C14/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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