Polishing agent for synthetic quartz glass substrate and polishing method for synthetic quartz glass substrate
WO2019097945
Art A1
23. Mai 2019
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019097945
- Aktenzeichen
- EP18877849
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09K3/14B24B37/00C03C19/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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