Oxide sintered body and sputtering target
WO2019097959
Art A1
23. Mai 2019
Anmelder: Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019097959
- Aktenzeichen
- EP18878636
- Anmeldetag
- 22. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C04B35/457C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsui Mining & Smelting
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Nichteisenmetallen sowie der Herstellung von Materialien für die Elektronikindustrie.
902 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.