Light generation device, exposure device comprising light generation device, exposure system, light generation method, and exposed photoresist production method

WO2019098262 Art A1 23. Mai 2019

Anmelder: Nagaoka University of Technology, University of Hyogo, Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019098262
Aktenzeichen: EP18878211
Anmeldetag: 15. November 2018
Veröffentlichung: 23. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B27/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Nagaoka University of Technology
University of Hyogo
Nissan Chemical Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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