Lithography system bandwidth control

WO2019099179 Art A1 23. Mai 2019

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2019099179
Aktenzeichen
EP18878671
Anmeldetag
29. Oktober 2018
Veröffentlichung
23. Mai 2019
Rechtsraum
WO
IPC
H01S3/09
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Cymer, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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