Predictive filter for polishing pad wear rate monitoring
WO2019099541
Art A1
23. Mai 2019
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019099541
- Aktenzeichen
- EP18877819
- Anmeldetag
- 14. November 2018
- Veröffentlichung
- 23. Mai 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B24B49/10B24B53/017B24B37/005G01B7/06G06F17/18
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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