Apparatus for producing semiconductor device, method for producing semiconductor device, and computer storage medium

WO2019102867 Art A1 31. Mai 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019102867
Aktenzeichen: EP18880519
Anmeldetag: 9. November 2018
Veröffentlichung: 31. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C25D21/04C25D17/06C25D17/10C25D21/12H01L21/288

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von