Substrate transfer device, substrate processing system, substrate processing method, and computer storage medium

WO2019102868 Art A1 31. Mai 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019102868
Aktenzeichen: EP18881357
Anmeldetag: 9. November 2018
Veröffentlichung: 31. Mai 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/677B65G49/07H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verpackungs- & Fördertechnik

Vertreten von