Laser beam monitoring system
WO2019105664
Art A1
6. Juni 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019105664
- Aktenzeichen
- EP18789444
- Anmeldetag
- 26. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01J1/04G01J1/42G02B27/10G03F7/20H05G2/00B23K26/70
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
3.336 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.