Negative photosensitive resin composition, method for producing said composition, and method for producing cured relief pattern
WO2019107250
Art A1
6. Juni 2019
Anmelder: Asahi Kasei Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019107250
- Aktenzeichen
- EP18882666
- Anmeldetag
- 21. November 2018
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/027C08G73/10C08L79/08G03F7/004G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Asahi Kasei Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Asahi Kasei
Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.
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