Substrate liquid treatment device, substrate liquid treatment method, and recording medium

WO2019107258 Art A1 6. Juni 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019107258
Aktenzeichen: EP18883730
Anmeldetag: 22. November 2018
Veröffentlichung: 6. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/31C23C18/18C23G1/02C23G3/00H01L21/304

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von