Highly Etch Selective Amorphous Carbon Film

WO2019108376 Art A1 6. Juni 2019

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019108376
Aktenzeichen: EP18883805
Anmeldetag: 13. November 2018
Veröffentlichung: 6. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3205H01L21/027H01L21/311H01L21/02C23C16/26C23C16/02C23C16/505C23C16/04C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von