Chamber environment recovery method and etching method

WO2019109670 Art A1 13. Juni 2019

Anmelder: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019109670
Aktenzeichen: EP18885542
Anmeldetag: 21. August 2018
Veröffentlichung: 13. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/32H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Beijing NAURA Microelectronics Equipment Co., Ltd.
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Beijing NAURA Microelectronics Equipment

Beijing NAURA Microelectronics Equipment ist ein chinesischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, mit weiteren Anmeldungen in Elektronik und Prozesssteuerung. Anmeldungen reichen von 2013 bis in die Gegenwart.

488 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von