Systems and methods for tuning and calibrating charged particle beam apparatus
WO2019110572
Art A1
13. Juni 2019
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2019110572
- Aktenzeichen
- EP18814864
- Anmeldetag
- 4. Dezember 2018
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2019
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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