Radiation-sensitive composition and resist pattern formation method

WO2019111727 Art A1 13. Juni 2019

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019111727
Aktenzeichen: EP18887147
Anmeldetag: 22. November 2018
Veröffentlichung: 13. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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