Photosensitive resin composition, dry film resist, and cured objects obtained therefrom

WO2019111796 Art A1 13. Juni 2019

Anmelder: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019111796
Aktenzeichen: EP18886301
Anmeldetag: 29. November 2018
Veröffentlichung: 13. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038B32B27/18B32B27/38C07F5/00C08G59/30C08G59/32G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nippon Kayaku

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Spezialchemikalien, Pharmazeutika und Farbstoffe.

1.397 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik Organische Chemie Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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