Nonwoven Screens For Dust Trapping in Laser Discharge Chambers

WO2019112809 Art A1 13. Juni 2019

Anmelder: Cymer, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019112809
Aktenzeichen: EP18886077
Anmeldetag: 21. November 2018
Veröffentlichung: 13. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: B01D46/10B01D39/10B01D35/28B01D39/14B01D45/08F01N3/021F01N3/023B32B7/03

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Cymer, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

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Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Verfahrens- & Trenntechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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