System and method for edge ring wear compensation

WO2019112903 Art A1 13. Juni 2019

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019112903
Aktenzeichen: EP18885652
Anmeldetag: 30. November 2018
Veröffentlichung: 13. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/687H01L21/67H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von