Method for controlling transistor delay of nanowire or nanosheet transistor devices

WO2019112954 Art A1 13. Juni 2019

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019112954
Aktenzeichen: EP18886842
Anmeldetag: 3. Dezember 2018
Veröffentlichung: 13. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/8238H01L29/423H01L21/822H01L27/06H01L27/092H01L27/11524

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von