Method for manufacturing damper device, lithographic apparatus, projection system, and device manufacturing method

WO2019115134 Art A1 20. Juni 2019

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2019115134
Aktenzeichen: EP18799792
Anmeldetag: 15. November 2018
Veröffentlichung: 20. Juni 2019
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20F16F9/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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